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(학위논문)'高集積 記憶素子用 積層 커패시터 絶緣薄膜 SiO₂/Si₃N₄의 形成 및 特性에 關한 硏究'at RISS Linked Data

https://data.riss.kr/resource/Thesis/000000030952
This Page as RDF
property info
Property Value
skos:prefLabel
  • 高集積 記憶素子用 積層 커패시터 絶緣薄膜 SiO₂/Si₃N₄의 形成 및 特性에 關한 硏究
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  • http://purl.org/ontology/bibo/Thesis
dc:title
  • 高集積 記憶素子用 積層 커패시터 絶緣薄膜 SiO₂/Si₃N₄의 形成 및 特性에 關한 硏究
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  • 011001
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  • kor
keris:captionLanguage
  • eng
keris:nlkClassification
  • 569.91
keris:nlkNumber
  • 구113ㄱ
keris:editOfKDC
  • 3
keris:editOfDDC
  • 19
schema:author
  • 구경완
dcterms:date
  • 1992
schema:publisher
  • 忠南大學校
library:placeOfPublication
  • 대전
dcterms:extent
  • 26cm
  • vii,110장
  • 삽도
bibo:degree
  • 학위논문(박사) -
keris:degreeMajor
  • 전자공학과 반도체 재료공학전공
keris:degreeOrgnization
  • 충남대학교 대학원
keris:degreeYear
  • 1992
bibo:locator
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keris:heldByLib
bibo:status
schema:datePublished
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  • CAPACITOR
  • DENSITY
  • DIELECTRIC
  • DRAM
  • FILM
  • HIGH
  • SIO₂
  • SI₃N₄
  • STACKED
  • THIN

본 페이지는 한국교육학술정보원의 종합목록(RISS) 데이터를 Linked Data로 시범 발행한 것입니다.

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